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ALD原子层沉积设备

太阳能ALD原子层沉积是通过将气相前躯体TMA和H20(或TMA和O3)脉冲交替地通入反应腔室内并在沉积基体上化学吸附反应生成沉积膜AL2O3的一种设备,主要应用到光伏PERC、TOPCON等新型工艺上,用于提高太阳能电池片的转换效率。

关键词:半导体 光伏 工业炉

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产品介绍

太阳能ALD原子层沉积是通过将气相前躯体TMA和H20(或TMA和O3 )脉冲交替地通入反应腔室内并在沉积基体上化学吸附反应生成沉积膜AL2O3的一种设备,主要应用到光伏PERC、TOPCON等新型工艺上,用于提高太阳能电池片的转换效率。

ALD技术的主要优势:

1.前躯体是饱和化学吸附,保证生成大面积均匀的薄膜。
2.可以沉积多组份纳米膜层和混合氧化物
3.薄膜生成可在低温(室温到300度)下进行。
4.可以通过控制反应周期数简单精确的控制薄膜的厚度,形成达到原子层厚度精度的薄膜。
5.可广泛适用于各种形状的基体。
 

ALD3.0  ALD在高效电池应用中的优势

ALD3. 技术在高效电池的产业化应用

原子层级薄膜沉积技术非常适合高效电池钝化应用
批量型ALD设备的成熟大大降低了生产成本
对新型电池技术适应性强
ALD新薄膜材料开发活跃

工艺气体进腔体排出后进预处理装置,此装置有效处理未反应完TMA,防止粉尘颗粒污染真空泵,提升泵的使用寿命,减少安全隐患,保证开机率。

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