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主要产品有: ALD，PECVD，LPCVD，常压、低压扩散炉，氧化炉，退火炉，石墨烯、碳纳米管合成炉，立式真空炉，氢气炉，真空钎焊、热处理炉等真空热工设备。
太阳能ALD原子层沉积是通过将气相前躯体TMA和H20(或TMA和O3)脉冲交替地通入反应腔室内并在沉积基体上化学吸附反应生成沉积膜AL2O3的一种设备，主要应用到光伏PERC、TOPCON等新型工艺上，用于提高太阳能电池片的转换效率。
松煜L PCVD低压化学气相沉积设备,用加热的方式在低压条件下使气态化合物在基片表面反应并积淀形成固定固体薄膜(SiOz, POLY-Si,P+POLY-Si)，目前主要使用方向为: TOPCon与POLO(POLY-Si)电池工艺路线。
松煜硼、磷扩散炉是最新型低压扩散炉，低压扩散是通过真空泵的作用，使反应腔体处于真空状态，然后通入工艺气体，扩散过程使腔室维持在稳定恒定的真空状态，从而保证腔室内硼或磷原子浓度不变。由于真空条件下气体分子自由程增加，气体分子在硅片表面的附着能力也有很大改善且避免了出现大量气体湍流，此时硼或磷原子可以均匀地分布在硅片表面，且在硅片表面扩散一层均匀的杂质原子，从而保证硅片扩散的均匀性。
原子层淀积系统可生长品质优异的薄膜，设备先进，稳定可靠。应用实例:高K栅氧化层，存储容性电介质，铜互连中高深宽比扩散阻挡层，OLED无针孔钝化层，MEMS的高均匀镀膜，纳米多孔结构镀膜，特种光纤掺杂，太阳能电池，平板显示器，光学薄膜，其它各类特殊结构纳米薄膜。
松煜科技
智能装备制造商
松煜科技是一家专业从事光伏及半导体工艺装备研发、生产、销售为一体的智能装备制造企业。目前公司主要产品有: ALD，PECVD，LPCVD，常压、低压扩散炉，氧化炉，退火炉，石墨烯、碳纳米管合成炉，立式真空炉，氢气炉，真空钎焊、热处理炉等真空热工设备。可广泛用于半导体集成电路、焊接封装、IGBT、MEMS、光伏电池制造及其他新能源、新材料、真空电子和磁性材料等领域，各类技术指标达到国内装备制造的先进水平。
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