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无锡松煜科技有限公司

我们是专业从事光伏及半导体工艺装备研发、生产、销售为一体的智能装备制造企业。
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产品中心

主要产品有: ALD,PECVD,LPCVD,常压、低压扩散炉,氧化炉,退火炉,石墨烯、碳纳米管合成炉,立式真空炉,氢气炉,真空钎焊、热处理炉等真空热工设备。

ALD原子层沉积设备

太阳能ALD原子层沉积是通过将气相前躯体TMA和H20(或TMA和O3)脉冲交替地通入反应腔室内并在沉积基体上化学吸附反应生成沉积膜AL2O3的一种设备,主要应用到光伏PERC、TOPCON等新型工艺上,用于提高太阳能电池片的转换效率。

微控扩散炉

扩散炉应用于分立器件、光电子器件、电力电子器件、太阳能电池及大规模集成电路制造等领域对最片进行扩散、氧化、退火、合金及烧结等工艺,可用于2~8英寸工艺尺寸。

PECVD等离子化学气相沉积系统

主要用于在晶体硅太阳能电池制造中在硅片上沉积AlxOy, SiO2/SiOxNy , SixNy薄膜。

LPCVD低压化学气相沉积设备

松煜L PCVD低压化学气相沉积设备,用加热的方式在低压条件下使气态化合物在基片表面反应并积淀形成固定固体薄膜(SiOz, POLY-Si,P+POLY-Si),目前主要使用方向为: TOPCon与POLO(POLY-Si)电池工艺路线。

低压管式高温硼磷扩散系统/退火炉/氧化炉

松煜硼、磷扩散炉是最新型低压扩散炉,低压扩散是通过真空泵的作用,使反应腔体处于真空状态,然后通入工艺气体,扩散过程使腔室维持在稳定恒定的真空状态,从而保证腔室内硼或磷原子浓度不变。由于真空条件下气体分子自由程增加,气体分子在硅片表面的附着能力也有很大改善且避免了出现大量气体湍流,此时硼或磷原子可以均匀地分布在硅片表面,且在硅片表面扩散一层均匀的杂质原子,从而保证硅片扩散的均匀性。

ALD原子层沉积设备

原子层淀积系统可生长品质优异的薄膜,设备先进,稳定可靠。应用实例:高K栅氧化层,存储容性电介质,铜互连中高深宽比扩散阻挡层,OLED无针孔钝化层,MEMS的高均匀镀膜,纳米多孔结构镀膜,特种光纤掺杂,太阳能电池,平板显示器,光学薄膜,其它各类特殊结构纳米薄膜。

智能装备制造商

松煜科技是一家专业从事光伏及半导体工艺装备研发、生产、销售为一体的智能装备制造企业。目前公司主要产品有: ALD,PECVD,LPCVD,常压、低压扩散炉,氧化炉,退火炉,石墨烯、碳纳米管合成炉,立式真空炉,氢气炉,真空钎焊、热处理炉等真空热工设备。可广泛用于半导体集成电路、焊接封装、IGBT、MEMS、光伏电池制造及其他新能源、新材料、真空电子和磁性材料等领域,各类技术指标达到国内装备制造的先进水平。

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先进、成熟的工艺支持,工艺控制软件终身免费服务、升级;非换代设备的成本价设备技术升级;新工艺、新产品的技术和设备保障;基于丰富的建线、工艺和设备经验,为客户免费提供前和售后的各类技术咨询支持;

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一年质保期;24小时服务热线,24小时服务响应;终身售后服务及备品备件供应;每年不少于两次的设备巡检养护及状态调整。

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