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石墨烯、纳米材料CVD设备

该设备主要用于石墨稀、纳米材料工艺涂层、多晶硅、碳化硅、扩散、氧化、退火等工艺。

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氢气炉

设备主要由真空室、加热系统、真空系统、快冷系统、气路系统、冷却水系统、气路系统和电控系统组成。主要用于软磁合金材料的氢气光亮退火工艺,钛及钛合金、不锈钢、高温合金、陶瓷-金属的真空钎焊及焊后热处理、不锈钢、玻璃的封装等工艺。

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