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ALD原子层沉积设备
原子层淀积系统可生长品质优异的薄膜，设备先进，稳定可靠。应用实例:高K栅氧化层，存储容性电介质，铜互连中高深宽比扩散阻挡层，OLED无针孔钝化层，MEMS的高均匀镀膜，纳米多孔结构镀膜，特种光纤掺杂，太阳能电池，平板显示器，光学薄膜，其它各类特殊结构纳米薄膜。
关键词：半导体 光伏 工业炉
所属分类：
产品描述
原子层淀积系统可生长品质优异的薄膜，设备先进，稳定可靠。应用实例:高K栅氧化层，存储容性电介质，铜互连中高深宽比扩散阻挡层，OLED无针孔钝化层，MEMS的高均匀镀膜，纳米多孔结构镀膜，特种光纤掺杂，太阳能电池，平板显示器，光学薄膜，其它各类特殊结构纳米薄膜。
■产品优势
先进的软件控制系统:系统集工艺配方、参数设置、权限设定、互锁报警、状态监控等功能于一体。
技术优势
◆支持多种制程工艺路线;
◆设备耗电量小;
◆设备占地空间小;
◆设备稳定性高,机械运动少，设备运行更稳定可靠;
◆设备产能高;
◆尾气已预处理;
◆机台保养维修方便,维护周期长，半年以上;
◆设备对干泵采取了必要措施的保护，泵的维护周期更长。
◆设备成膜质量好，致密均匀度好;
可沉积薄膜种类
◆单质:Co,Cu,Ta, Ti, W,Ge, Pt,Ru, Ni,Fe…氮化物:TiN,SiN,AIN,TaN,ZrN, HfN, WN….
◆氧化物:TiO2, HfO2,SiO2,ZnO,ZrO2,Al2O3,La2O3, SnO2…
◆其它化合物:GaAs,AlP, InP,GaP, InAs,LaHfxOy,SrTiOs,SrTaO6…
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