确认
新闻资讯

产品中心

联系我们

+
  • undefined

LPCVD低压化学气相沉积设备

松煜L PCVD低压化学气相沉积设备,用加热的方式在低压条件下使气态化合物在基片表面反应并积淀形成固定固体薄膜(SiOz, POLY-Si,P+POLY-Si),目前主要使用方向为: TOPCon与POLO(POLY-Si)电池工艺路线。

关键词:半导体 光伏 工业炉

所属分类:

产品咨询:

产品描述

产品介绍

松煜L PCVD低压化学气相沉积设备,用加热的方式在低压条件下使气态化合物在基片表面反应并积淀形成固定固体薄膜(SiOz, POLY-Si,P+POLY-Si),目前主要使用方向为: TOPCon与POLO(POLY-Si)电池工艺路线。

 

相关产品

在线留言

Copyright © 2022 无锡松煜科技有限公司

松煜科技