产品中心
联系我们
LPCVD低压化学气相沉积设备
松煜L PCVD低压化学气相沉积设备,用加热的方式在低压条件下使气态化合物在基片表面反应并积淀形成固定固体薄膜(SiOz, POLY-Si,P+POLY-Si)，目前主要使用方向为: TOPCon与POLO(POLY-Si)电池工艺路线。
关键词：半导体 光伏 工业炉
所属分类：
产品描述
产品介绍
松煜L PCVD低压化学气相沉积设备,用加热的方式在低压条件下使气态化合物在基片表面反应并积淀形成固定固体薄膜(SiOz, POLY-Si,P+POLY-Si)，目前主要使用方向为: TOPCon与POLO(POLY-Si)电池工艺路线。
在线留言
联系我们
Copyright © 2022 无锡松煜科技有限公司
