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立式炉
本设备主要适用于不同物质在气氛保护下发生化学反应，收集其反应生成物等，主要用于合成材料制备。可用于碳纳米材料及其他材料大规模制备生产，产量高,稳定性好,操作简单。
关键词：半导体 光伏 工业炉
所属分类：
产品描述
本设备主要适用于不同物质在气氛保护下发生化学反应，收集其反应生成物等，主要用于合成材料制备。可用于碳纳米材料及其他材料大规模制备生产，产量高,稳定性好,操作简单。
立式炉主要工艺技术参数
炉体结构:立式单管状
温控加热温区数:4段
炉体最高工作温度:400~700℃
温场均匀性:±5℃
恒温区长度:≥1100mm
控温精度:±0.1℃
温度显示精度:≤0.1℃
控制方式:触摸屏+PLC+控温仪表
电源电压:三相380V/50Hz
最大升温功率:~20KVA
最大保温功率:~8KVA
工作最佳状态:连续
炉体长度:~1500mm
石英管尺寸:200mm
真空度:≤-0.1MPa
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